ترجمه مقاله نقش ضروری ارتباطات 6G با چشم انداز صنعت 4.0
- مبلغ: ۸۶,۰۰۰ تومان
ترجمه مقاله پایداری توسعه شهری، تعدیل ساختار صنعتی و کارایی کاربری زمین
- مبلغ: ۹۱,۰۰۰ تومان
Scaling of silicon technology continues while a research has started in other novel materials for future technology generations beyond year 2015. Carbon nanotubes (CNTs) with their excellent carrier mobility are a promising candidate. The authors investigated different CNT-based field effect transistors (CNFETs) for an optimal switch. Schottky-barrier (SB) CNFETs, MOS CNFETs, and state-of-the-art Si MOSFETs were systematically compared from a circuit/system design perspective. The authors have performed a dc analysis and determined how noise margin and voltage swing vary as a function of tube diameter and power-supply voltage. The dc analysis of single-tube SB CNFET transistors revealed that the optimum CNT diameter for achieving the best ION-to-IOFF ratio while maintaining a good noise margin is about 1 to 1.5 nm. Despite several serious technological barriers and challenges, CNTs show a potential for future high-performance devices as they are being researched.
مقیاس بندی فن آوری سیلیکونی در حالی ادامه دارد که تحقیقات روی سایر مواد جدید برای نسل های آینده تکنولوژی فراتر از سال 2015 آغاز شده است. نانولوله های کربنی (CNT ها) با تحرک حامل عالی خود، مورد امیدوار کننده ای هستند. نویسندگان ترانزیستورهای اثر میدانی مبتنی بر CNT مختلف (CNFETs) را برای سوئیچ بهینه بررسی کرده اند. شاتکی مانع (SB) CNFET ها، CNFET های MOS، و MOSFET های مدرن به طور سیستماتیک از دیدگاه طراحی مدار/سیستم مقایسه شدند. نویسندگان یک تحلیل DC انجام داده اند و چگونگی نوسان ولتاژ و حاشیه نویز را به عنوان تابعی از قطر لوله و منبع ولتاژ توان مختلف تعیین کرده اند. تجزیه و تحلیل DC ترانزیستورهای SB CNFET تک لوله نشان داد که قطر بهینه CNT برای تحقق بهترین نسبت Ion به Ioff در عین حفظ حاشیه نویز خوب، در حدود 1 تا 1.5 نانومتر است. با وجود موانع و چالش های تکنولوژی جدی متعدد، CNTها برای دیوایس های با عملکرد بالا در آینده پتانسیل نشان می دهند و هم اکنون در دست تحقیق می باشند.