ترجمه مقاله عدم برگشت پذیری حرارتی در قابلیت هدایت ورقه های ژرمانیوم نیترید و اکسی نیترید - نشریه الزویر

ترجمه مقاله عدم برگشت پذیری حرارتی در قابلیت هدایت ورقه های ژرمانیوم نیترید و اکسی نیترید - نشریه الزویر
قیمت خرید این محصول
۲۹,۰۰۰ تومان
دانلود مقاله انگلیسی
عنوان فارسی
عدم برگشت پذیری حرارتی در قابلیت هدایت ورقه های ژرمانیوم نیترید و اکسی نیترید
عنوان انگلیسی
Thermally induced irreversibility in the conductivity of germanium nitride and oxynitride films
صفحات مقاله فارسی
2018
صفحات مقاله انگلیسی
7
سال انتشار
21
نشریه
الزویر - Elsevier
فرمت مقاله انگلیسی
PDF
فرمت ترجمه مقاله
ورد تایپ شده و pdf
نوع مقاله
ISI
نوع نگارش
مقالات پژوهشی (تحقیقاتی)
نوع ارائه مقاله
ژورنال
پایگاه
اسکوپوس
ایمپکت فاکتور(IF) مجله
2.817 در سال 2018
شاخص H_index مجله
49 در سال 2018
شاخص SJR مجله
0.633 در سال 2018
شناسه ISSN مجله
1369-8001
شاخص Q یا Quartile (چارک)
Q2 در سال 2018
کد محصول
F1344
وضعیت ترجمه عناوین تصاویر و جداول
ترجمه شده است ✓
وضعیت ترجمه متون داخل تصاویر و جداول
ترجمه نشده است ☓
وضعیت ترجمه منابع داخل متن
درج ننشده است ☓
بیس
نیست ☓
مدل مفهومی
ندارد ☓
پرسشنامه
ندارد ☓
متغیر
ندارد ☓
رشته های مرتبط با این مقاله
مهندسی مواد
گرایش های مرتبط با این مقاله
شناسایی و انتخاب مواد، متالوژی صنعتی
مجله
علوم مواد در پردازش نیمه هادی - Materials Science in Semiconductor Processing
دانشگاه
دانشکده علوم و فنون، بخش فیزیک، دانشگاه کامرونو، ایتالیا
کلمات کلیدی
نیترید ژرمانیوم، اکسی نیترید ژرمانیوم، تبرید حرارتی، هدایت پذیری الکتریکی
کلمات کلیدی انگلیسی
Germanium nitride - Germanium oxynitride - Thermal annealing - Electrical conductivity
doi یا شناسه دیجیتال
https://doi.org/10.1016/j.mssp.2017.10.006
فهرست مطالب
چکیده
مقدمه
روش آزمایش
نتایج
ثبات درجه حرارت ورقه های ته نشست شده
تبرید حرارتی در اتمسفر N2
بحث
نتیجه گیری ها
نمونه چکیده متن اصلی انگلیسی
Abstract

We report the evidence for irreversible changes in the conductivity, σ T( ), of a-Ge3Nx (3.7 4. < <x 6) and quasistoichiometric a-Ge2OyNx thin films occurring at T ≳ 630 K, under high vacuum conditions. We have found that σ T( ) curves not only depend on the material properties but also on the thermal history undertaken by films. The irreversibility in σ T( ), during heating in vacuum, is correlated to the transformation of the native GeO2 into volatile GeO. Thermal annealing in N2 atmosphere, on the contrary, results to extend film stability up to 973 K. At higher T, domes and pits are formed onto the film surface, due to the strong effusion of N-rich volatile species. Unstable N-Ge bonds can explain both the nitrogen thermodynamic instability and the Ge nano-crystallisation process occurring in a-Ge3Nx films, upon heating until 1023 K. Compared to a-Ge3Nx, quasi-stoichiometric aGe2OyNx is both more insulating and more stable upon heating up to 1023 K under N2 flow, that makes it a suitable passivating layer material for the fabrication of electronic devices.

نمونه چکیده ترجمه متن فارسی
چکیده
ما گزارش شواهدی از تغییرات غیرقابل برگشت را روی هدایت پذیری، σ(T)، ورقه های نازک (a-Ge3Nx (3.7<x< 4.6 و شبه استیوکیومتریک a-Ge2OyNx که در T ≳ 630 K تحت شرایط خلا بالا رخ داده است، گزارش کرده ایم. ما دریافته ایم که منحنی های σ(T) نه تنها به خصوصیت ماده بلکه به سابقه حرارتی انجام شده توسط ورقه ها هم بستگی دارند. قابلیت برگشت ناپذیری در σ(T)، طی حرارت دهی در خلا، با تغییرشکل GeO2 اصلی به GeO فرّار همبستگی دارد. تبرید حرارتی در اتمسفر N2، برعکس، منجر به بسط ثبات ورقه تا 973 K شده است. در T بالاتر، خلل و فرجی روی سطح ورقه تشکیل می شود، که به دلیل برون تراوی قوی گونه های فرّار غنی از N می باشد. پیوند بی ثبات N-Ge می تواند هم عدم ثبات ترمودینامیکی نیتروژن و هم فرایند نانوکریستالی Ge را که در ورقه های a-Ge3Nx رخ داده است به محض حرارت دهی تا دمای 1023K توضیح بدهد. در مقایسه با a-Ge3Nx، aGe2OyNx شبه استیوکیومتریک هم عایق پذیری بیشتری درد و هم ثبات بیشتری به محض گرمسازی تا 1023K تحت جریان N2 دارد که باعث می شود یک ماده لایه ای روکش مناسبی برای ساخت وسایل الکترونیک بشود.

بدون دیدگاه