ترجمه مقاله XPS و TEM در واکنش حالت جامد Ru-Si ترکیب دوظرفیتی سیلیکون روتنیم رشد کرده – نشریه الزویر

عنوان فارسی: | بررسی XPS و TEM در واکنش حالت جامد Ru-Si و رسوب شده ترکیب دوظرفیتی سیلیکون (سیلیسید) روتنیم رشد کرده بر روی سیلیکون |
عنوان انگلیسی: | XPS and TEM study of deposited and Ru–Si solid state reaction grown ruthenium silicides on silicon |
تعداد صفحات مقاله انگلیسی : 5 | تعداد صفحات ترجمه فارسی : 12 |
سال انتشار : 2015 | نشریه : الزویر - Elsevier |
فرمت مقاله انگلیسی : PDF | فرمت ترجمه مقاله : ورد تایپ شده |
کد محصول : 5439 | رفرنس : دارد |
محتوای فایل : zip | حجم فایل : 1.71Mb |
رشته های مرتبط با این مقاله: فیزیک و شیمی |
گرایش های مرتبط با این مقاله: شیمی آلی، شیمی پلیمر، شیمی کاربردی، شیمی فیزیک، حالت جامد، نانو فیزیک و فیزیک کاربردی |
مجله: علوم مواد در فرایندهای نیمه هادی |
دانشگاه: گروه صنعتی و مهندسی سیستم، دانشگاه پلی تکنیک هنگ کنگ، چین |
کلمات کلیدی: روتنیم سیلیسید ، XPS طیف سنجی رامان ، TEM، کندوپاش |
وضعیت ترجمه عناوین تصاویر و جداول: ترجمه شده است |
وضعیت ترجمه متون داخل تصاویر و جداول: ترجمه نشده است |
چکیده
1. مقدمه
2. آزمایش
3. بحث و نتایج
4. استنتاج
abstract
Ru2Si3 silicide was prepared in two different ways: (i) through a deposition (D) from a Ru2Si3 sputtering target and (ii) via a solid state reaction (SSR) of ruthenium thin film with silicon to form a rectifying structure silicide/silicon. Both types of silicides were treated at 700 °C in nitrogen ambient for 5 min in order to facilitate crystallization and solid state reaction, respectively. Transmission electron microcopy (TEM), x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Raman spectroscopy were applied to study structural, compositional and chemical properties of the two types of silicides.
چکیده
ترکیب دو ظرفیتی سیلیکون به دو روش مختلف آماده می شود: الف) از طریق رسوب (D) از کندوپاشی و (ب) از طریق واکنش حالت جامد (SSR) غشاء نازک روتنیم با سیلیکون برای تشکیل ساختار رکتیفایر ترکیب دو ظرفیتی سیلیکون/ سیلیکون. هر دو نوع ترکیب ظرفیتی سیلیکون در در محیط نیتروژن به مدت 5 دقیقه به منظور تسهیل تبلور و واکنش حالت جامد مورد عمل قرار داده می شوند. میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM)، طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس (XPS) و طیف سنجی Raman برای بررسی خواص ترکیبی و شیمیایی و ساختاری دو نوع ترکیب دوظرفیتی سیلیکون اعمال می شوند.