ترجمه مقاله XPS و TEM در واکنش حالت جامد Ru-Si ترکیب دوظرفیتی سیلیکون روتنیم رشد کرده - نشریه الزویر

قیمت خرید این محصول

۱۱۶,۰۰۰ تومان

دانلود رایگان نمونه دانلود مقاله انگلیسی

عنوان فارسی

بررسی XPS و TEM در واکنش حالت جامد Ru-Si و رسوب شده ترکیب دوظرفیتی سیلیکون (سیلیسید) روتنیم رشد کرده بر روی سیلیکون

عنوان انگلیسی

XPS and TEM study of deposited and Ru–Si solid state reaction grown ruthenium silicides on silicon

صفحات مقاله فارسی

صفحات مقاله انگلیسی

سال انتشار

2015

نشریه

الزویر - Elsevier

فرمت مقاله انگلیسی

PDF

فرمت ترجمه مقاله

ورد تایپ شده

رفرنس

دارد

کد محصول

5439

وضعیت ترجمه عناوین تصاویر و جداول

ترجمه شده است

وضعیت ترجمه متون داخل تصاویر و جداول

ترجمه نشده است

رشته های مرتبط با این مقاله

فیزیک و شیمی

گرایش های مرتبط با این مقاله

شیمی آلی، شیمی پلیمر، شیمی کاربردی، شیمی فیزیک، حالت جامد، نانو فیزیک و فیزیک کاربردی

مجله

علوم مواد در فرایندهای نیمه هادی

دانشگاه

گروه صنعتی و مهندسی سیستم، دانشگاه پلی تکنیک هنگ کنگ، چین

کلمات کلیدی

روتنیم سیلیسید ، XPS طیف سنجی رامان ، TEM، کندوپاش

۰.۰ (هنوز امتیازی ثبت نشده است)

فهرست مطالب

چکیده
1. مقدمه
2. آزمایش
3. بحث و نتایج
4. استنتاج

نمونه چکیده متن اصلی انگلیسی

abstract

Ru2Si3 silicide was prepared in two different ways: (i) through a deposition (D) from a Ru2Si3 sputtering target and (ii) via a solid state reaction (SSR) of ruthenium thin film with silicon to form a rectifying structure silicide/silicon. Both types of silicides were treated at 700 °C in nitrogen ambient for 5 min in order to facilitate crystallization and solid state reaction, respectively. Transmission electron microcopy (TEM), x-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and Raman spectroscopy were applied to study structural, compositional and chemical properties of the two types of silicides.

نمونه چکیده ترجمه متن فارسی

چکیده
ترکیب دو ظرفیتی سیلیکون به دو روش مختلف آماده می شود: الف) از طریق رسوب (D) از کندوپاشی و (ب) از طریق واکنش حالت جامد (SSR) غشاء نازک روتنیم با سیلیکون برای تشکیل ساختار رکتیفایر ترکیب دو ظرفیتی سیلیکون/ سیلیکون. هر دو نوع ترکیب ظرفیتی سیلیکون در در محیط نیتروژن به مدت 5 دقیقه به منظور تسهیل تبلور و واکنش حالت جامد مورد عمل قرار داده می شوند. میکروسکوپ الکترونی عبوری (TEM)، طیف سنجی فوتوالکترون اشعه ایکس (XPS) و طیف سنجی Raman برای بررسی خواص ترکیبی و شیمیایی و ساختاری دو نوع ترکیب دوظرفیتی سیلیکون اعمال می شوند.